一眼看上去,Westmere-EP晶圆最大的特点就是最高集成了6个处理器核心,包括12MB L3缓存,一共多达11.7亿晶体管,四核心的Nehalem-EP包括8MB L3缓存则只有7.31亿晶体管,而Westmere-EP的核心面积只有240mm2(有一个数据说是248mm2),Nehalem-EP则达到了262mm2,晶体管多出60%的Westmere-EP核心面积还要小了8.4%,密度整整提升了74.7%,这些都要归功于先进的32nm工艺。
70亿美元,是Intel花在32nm晶圆厂上的钱,钱不够的话,这个半导体,一不小心就会做成半倒体
目前Intel的四个32nm工厂:位于Oregon俄勒冈州的D1D和D1C已经完成了32nm制造工艺的转产工作,而位于Arizona亚利桑那州和New Mexico新墨西哥州的Fab 32和Fab 11X将会很快完成转产工作。
幸好,Intel的32nm工艺进展良好,最终Intel在09年第四季度发布了数款32nm芯片(图上纵坐标为缺陷密度/反过来就意味着成品率)