英特尔65nm和45nm工艺原理
随着材料以及工艺的不断改革，晶体管的体积在不断地缩小，但是性能却在大幅的提高。
新材料、新工艺的应用在性能不断提升的同时，功耗也在不断地降低，65nm到45nm再到32nm每代工艺的更新，功耗降低将近10倍。这些为丰富的用户体验提供了最基础也是最重要的条件，从大型服务器、桌面服务器、笔记本、平板电脑、手机等等无一不在见证着晶体管发展的奇迹。
IDF2011--回顾Intel晶体管的发展历程
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